x射線熒光膜厚分析儀

x射線熒光膜厚分析儀技術參數和性能介紹，x射線熒光膜厚分析儀是用來測量材料及物體厚度的儀表。在工業生產中常用來連續或抽樣測量產品的厚度（如鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料）。滿足各種不同厚度樣品以及不規則表面樣品的測試需求。φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求。高精度平臺可測試點，重復定位精度小于0.005mm。采用高度定位激光，可自動定位測試高度。定位激光確定定位光斑，確保測試點與光斑對齊。

產品技術指標

型號：Thick 800A

元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。
同時可以分析30種以上元素，五層鍍層。
分析含量一般為ppm到99.9 。
鍍層厚度一般在50μm以內（每種材料有所不同）
任意多個可選擇的分析和識別模型。
相互立的基體效應校正模型。
多變量非線性回收程序
度適應范圍為15℃至30℃。
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩壓電源。
外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm
樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm
重量：90kg


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